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    非自耗真空電弧爐

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    非自耗真空電弧爐

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    產品描述
    參數

    1. 設備用途:採用電弧等離子體加熱原理熔鍊製備各種金屬材料,是新材料研发与小规模生产的关键设备;
    1.1 金属、金属间化合物及半导体材料试样的制备
    1.2 材料致密化与提纯
    1.3 大块非晶试样制备
    1.4 电弧高温热处理
    1.5 特种合金试样制备与生产

    2.技术数据:

    熔融温度范围 室温~ 4000℃ 极限真空度(分子泵系统) 5 × 10-4 Pa
    压升率 ≤0.67Pa/H 通入工作气氛 氩气
    工作压力范围 0.3 - 0.7bar 典型电动旋转坩埚熔炼工位 10个
    熔炼电流 50-1250A 单工位熔炼合金量 30-150克(以钢计) 

     

    2.1炉体:方型,全不锈钢制造,双层水冷结构
    2.2 熔池:紫铜制造,双层水冷结构
    2.3 电极: 水冷电极 钨极
    2.4 每一熔池均有电磁搅拌
    2.5 具有倾转浇注和吸铸功能
    2.6 直流电源,高频自动起弧
    2.7 分子泵真空机组
    2.8 控制系统可选:
    PC/PLC全自动控制
    手动触摸屏控制
    手动按钮控制.

    3.技术规格:JVAM-1A (基本型);JVAM-1B (带浇铸或吸铸);JVAM-1C(带浇铸吸铸);JVAM-2 ;JVAM-Z(全自动型);JVAM-3

     

     

     

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